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HGO fait pousser des cristaux LiF en interne en utilisant la technologie Czochralski. Le cristal LiF ou le cristal de fluorure de lithium est un matériau optique avec une transmission exceptionnelle dans la région VUV. Il est également utilisé pour les fenêtres, les prismes et les lentilles dans le visible et l'infrarouge en 0,104µm-7µm.
Le monocristal de LiF est sensible aux chocs thermiques et serait attaqué par l'humidité atmosphérique à 400°C. Lorsqu'il travaille à une température élevée de 600 ° C, le cristal LiF se ramollit et est légèrement plastique, de sorte qu'il peut être plié en plaques arrondies. De plus, l'irradiation produit des centres de couleur. Par conséquent, les utilisateurs doivent prendre des mesures pour protéger les cristaux LiF de l'humidité et des dommages causés par les rayonnements à haute énergie.
De plus, LiF peut être clivé le long du plan (100) et moins fréquemment du plan (110). Les caractéristiques optiques sont bonnes et pourtant la structure n'est pas parfaite et le clivage est difficile.
Origine du produit:
ChinaPort d\'expédition:
Fuzhou, ChinaDélai de mise en œuvre:
3-4weeks
Descriptifs :
HGO grandit Fluorure de lithium cristal LiF . Le cristal LiF ou le cristal de fluorure de lithium est un matériau optique avec une transmission exceptionnelle dans la région VUV. Il est largement utilisé pour les fenêtres, les prismes et les lentilles dans le visible et l'infrarouge en 0,104 µm-7 µm.
Application principale :
1) Plaques de monochromateur à rayons X Tubes photomultiplicateurs UV
2) Matériel optique pour applications VUV
3) Fenêtres, prismes et lentilles
Caractéristiques principales:
1) A tendance à créer des centres de couleur.
2) Température maximale d'application : 400 °C
3) Excellente transmission de la région VUV
4) Sensible aux chocs thermiques
Propriétés optiques du cristal LiF :
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Plage de transmission |
0,105 … 6 µm |
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Indice de réfraction |
non = 1,37327@2,5µm, 1,624@0,12µm |
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Perte réfléchissante |
4,4 % à 4,0 µm |
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Coefficient de Poisson |
0,326 |
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Coefficient d'absorption/cm-`1 |
0,74×10-3@2,7µm |
Propriétés de base du cristal LiF :
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Densité |
2.64g/cm3 |
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Point de fusion |
870 ℃ |
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Masse molaire |
25.9394 |
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Paramètres de réseau |
4,0279 Å |
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Conductivité thermique |
4,01 W/(m·K) |
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Chaleur spécifique |
1562 (J kg-1 K-1) |
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Coefficient de dilatation thermique |
28,1 - 34,8 (10-6/K) |
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Dureté Knoop |
102–103kg/mm2 |
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Dureté de Mohs |
3 |
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Module d'Young |
64,79 GPa |
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Module de cisaillement |
55,14 GPa |
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Module de masse |
62,03 GPa |
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Module de rupture |
10,8 MPa |
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Coefficient élastique |
C11 = 112 / C12 = 45,6 / C44 = 3,2 GPa |
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Type de cristal |
Fm3m, cubique, structure de type NaCl |
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Constante diélectrique |
9,0 à 25 °C, f = 100...109 Hz |
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Solubilité dans l'eau |
0,27 (g/100 cm3) à 18 °C |
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Limite d'élasticité apparente/MPa |
11.2@1620 psi |
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Clivage |
-100 |
HGO propose des spécifications LiF :
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Orientation: |
<100> |
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Distorsion du front d'onde : |
λ/4 par pouce à 632,8 nm |
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Tolérances dimensionnelles ： |
tiges de diamètre : +0,0/-0,05 mm , Longueur : ±0,1 mm |
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Qualité de surface: |
20/10 Scratch/Dig MIL-O-1380A |
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Parallélisme: |
< 20 ″ |
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Perpendicularité: |
< 10 ′ |
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Ouverture claire : |
> 90% |
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Planéité de surface : |
< λ/8 à 632,8 nm |
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Chanfreiner: |
< 0,25 mm à 45 degrés. |
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Taille |
A la demande du client |
|
Période de garantie de qualité |
Un an en cas d'utilisation appropriée |
Pourquoi choisir HGO ?
HG OPTRONIQUE., INC. est l'un des rares producteurs à produire des cristaux LiF en interne. L'utilisation de matières premières de haute qualité pour la croissance cristalline, l'interférométrie boule entière, l'inspection précise des particules de diffusion dans le cristal à l'aide d'un laser He-Ne et la mesure délicate des pertes de volume à l'aide d'un spectrophotomètre garantissent que chaque cristal sera conforme aux spécifications du client et fonctionnera bien.
De plus, nous pouvons également produire d'autres types de cristaux de fenêtre comme les cristaux YAG, les cristaux BaF2, MgF2, etc.
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Le MgF 2 ou fluorure de magnésium est un cristal uniaxial positif avec une transmission optique très élevée de l'UV sous vide à l'IR. Il est régulièrement utilisé pour les éléments optiques où une robustesse et une durabilité extrêmes sont requises. Il a également une grande résistance aux chocs mécaniques et thermiques, au rayonnement optique, et est chimiquement stable, ce qui en fait un matériau très utile pour l'optique UV et IR.
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